射頻放電
高頻放電又稱射頻放電，其放電頻率通常在10-100MHz之間。在放電過程中放電方向隨著電極極性的調換而調換。在電源放電頻率較低的時候放電會不穩定，隨著電源
放電頻率的增大，當頻率增大一定程度后就會開始穩定放電。在高頻放電的 過程中，帶電粒子在高頻電場的作用下在兩極板間運動。
射頻放電激發模式
目前等離子清洗機射頻放電的國際通用標準頻率為13.56MHz。根據耦合方式分類，大致可以分為兩種，一種是電容耦合另一種是電感耦合。電容耦合大多采用內置的
平板電極模式，放電時在兩極板上加射頻電源，在兩極板間氣體激發產生等離子體。PLUTO等離子清洗機系列就采用的此種放電激發模式。
與之不同的是電感耦合大部分利用外電極放電，其原理是應用電磁感 應將感應線圈纏繞在放電腔體外部激發出二次電場，從而激發腔體內的氣體產生等離子體。這兩種
耦合方式各有優劣。
容性耦合（CCP）和感性耦合（ICP）
容性耦合等離子體源（CCP）如左圖中這個放電裝置相當于平板電 容器，在射頻電場里，等離子電子加速并在極板間往返運動，由于極板面積較大所 以這種裝置能夠
產生大面積的均勻等離子體。
感性耦合等離子體源（ICP）右圖：放電腔體外纏繞著感應線圈，在電磁感應所產生的二次電場作用下激發氣體放電。
感性耦合等離子體源（ICP）感性耦合模式（H模式）和容性耦合模式（E模式）兩種放電模式。
E模式
放電腔體外纏繞著感應線圈，在電磁感應所產生的二次電場作用下激發氣體放電。這種裝置不僅可以控制離子通量還可以控制離子轟擊能量，分別調節電源功率和射頻
偏壓功率即可完成。一般應用于刻蝕等應用場合。
電子回旋共振等離子體源(ECR)：在這種裝置類型下可以通過調 節射頻偏壓功率控制粒子轟擊能量，而為了電子能吸收波的能量，需要在等離子體 中加入強直流電場。
