微波等離子體清洗機簡介

沛沅微波等離子體清洗機是用工作頻率為2.45GHz的微波激發工藝氣體放電,在正負極磁場作用下的諧振腔體內產生等離子體，該諧振腔體位于反應倉體旁邊，磁控管連接微波發生器，因為整個放電過程不需要正負電極，所以產生自偏壓極小，從根本上避免了靜電放電損傷。

微波等離子體清洗機的工藝流程及其工藝參數決定著清洗質量，工藝流程包括抽真空、充放工藝氣體、輝光放電、凈化和平衡，工藝參數包括放電功率、氣體種類、氣體流量和輝光放電時間，不同的工藝參數設置直接影響微波等離子體清洗效果，因此針對不同的清洗對象和制程要求應該設置適當的工藝參數以便進行清洗。

集成電路制程中不同的工藝過程會使用不同的物料盒來存放工件，主要分為半封閉式和敞開式的物料盒，這就要求清洗機有很好的兼容性，因此沛沅在微波等離子體清洗機中設計了三種清洗模式，分別是ECR模式，順流模式和旋轉模式，可通過觸摸屏進行切換，其中旋轉清洗和ECR清洗模式適用于敞開式的物料盒，順流清洗模式適用于半封閉的物料盒，同時清洗模式的不同對反應腔體的真空度要求也不一樣，ECR清洗模式所需的真空度要求更低，相比另外兩種模式效果更好，去除污染物的能力更強。

與射頻等離子清洗的匹配性相比,微波等離子體清洗機的匹配性更加困難,主要由于微波反饋過程中,如果不能精確的進行負載調節,微波源將很容易造成損傷。所以說精確的匹配性調節是獲得優良清洗效果的必要條件。微波源配備合適的匹配系統可以根據清洗腔體及產品等清洗條件的不同進行負載阻抗自動調節，使清洗效果及一致性達到最佳。

微波等離子清洗具有激發頻率高、自偏壓小、離子動能小、離子濃度高、化學反應強等特點，可以有效避免靜電損傷、實現均勻的三維清洗，與傳統等離子清洗（超聲或射頻）相比，微波等離子清洗可以產生具有優良特性的等離子體，所以微波等離子體清洗機在集成電路制程中，尤其是可靠性要求極高的軍用集成電路生產過程中發揮著舉足輕重的作用，市場前景十分廣闊。